半導体製造装置設備機器のライフサイクルをものづくり技術で養った¦半導体レーザ制御技術|定電流LD素子駆動|サーモ・モジュールPWM制御駆動¦PID精密温度制御|温度サポート各種センサー|等々の総合科学(電気・機械・光学・熱力・化学)を駆使し、半導体製造設備システムの延命保守修復サービスを提供し、安心・安全な製造工程の維持を実現致します。
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■光ディスク(追記型又は書き換え型のものに限る)製造設備の耐用年数・・・・・・・・・・・・6年
■プリント基板製造設備の耐用年数
・・・・・・・・・・・・・・6年
■フラットパネルディスプレイ、
半導体集積回路又は、半導体素子製造設備の耐用年数・・・・・・・・・・・・・5年
半導体製作工程の紹介
■マスク製造工程(レーザ転写、レーザアニール)
1.回路・パターン設計
2.フォトマスク作成
■ウエハ製造工程
1.シリコンインゴットカッター
2.ウエハー研磨
■前工程
1.ウエハー酸膜化(絶縁層)
2.被膜形成(製造する製品に応じた被膜形成)CVD
3.フォトレジスト塗布
(ウエハー表面に均一に塗布し回路パターンの焼き付けの前処理)
4.露光・現像
(ウエハー上にフォトマスク縮小レンズを還し光源を照射、回路パタンを焼き付ける
次に現像液で不要レジスト部を除去する
ポジ式では感光ヶ所、ネガ式では感光しなかったヶ所を除去
5.エッチング
フォトレジストで形成されたパターンに沿って酸化膜・薄膜を除去する
フォトレジストで覆われている部分は残る
6.レジスト剥離・洗浄
残っているフォトレジストを剥離、ウエハー上の不純物を薬液で洗浄
7.イオン注入
不純物イオン(ドーバント)を注入、熱処理を施し活性化、半導体電気特性に有効な変化を与える
8.平坦化
ウエハー表面を研磨し、平坦化フォトレジスト塗布から平坦化までの工程を繰り返し、必要な回路を作り込む
9.電極形成
チップ内部と外部を電気的に接続する導通線の形成
■後工程
1.ダイシング
ダイヤモンドブレードでウエハー所の回路要素ごとに分離チップ化
2.ワイヤーボンディング
リードフレーム上にチップを固定、金線で接続し配線を可能なモジュール化工程へ
3.モールディング
チップを外乱、衝撃等から保護する為樹脂でパッケージ化
4.出荷検査
対温度、対電圧試験、電気特性取試験、外観構造検査、を実施不良品を排除
弊社サービスの特徴
半導体製造装置のライフサイクルをものづくり技術で延命サポートします。
お客様のご依頼を受けて、経験豊富な技術員が日本国内を中心に、迅速に対応します。
装置寿命が高く、部品入手が困難なユニットも、当社の技術力で修理・改造を行い、延命します。
主なサービス
定期点検・トラブル対応などのフィールドサービス、予防保全、常駐保守、装置解体オバーホール延命処置・移設作業、付帯設備サービス など。
半導体製造装置の安定稼働を維持し、ラインの安定した生産を支えます。
多様な条件に見合った最適なメンテナンスを提案し、サービスを通じてお客様のコスト低減と稼働率向上に貢献します。
■リペアサービス
長年の経験(機械・電気・光学・熱力等)制御技術による信頼のリペア技術をご提供します。
<取扱分野>
プリント基板、各種光源ユニット、RF・光学関連機器、マスフローコントローラ、サーモ・モジュール熱交換器等
特殊サービス
■設備再生・既存設備延命サービス
保守サービス/生産中止等の設備品相当・互換性能品を製作提供致します。
フォトマスクの成膜工程に於いて、ガラスやPETなどの透明な基板上に、特定の微細回路パターンを精密に金属膜で転写する為に広く用いられています
ドイツ/ラソス社のHe-Neレーザー光源が有りますが、周波数安定化HeNeレーザ(FS-1M)のレーザ管の寿命は約3,000時間で再生交換されています。これに対し、半導体レーザーの平均寿命は、連続点灯時で約7,000~10,000時間で、ガスレーザと比較し2~3倍寿命が異なります。貴社は、どちらを選択していますか。では、次の行動とし、コストパフォーマンスの確認見積依頼をお待ち致します。
要素部材を基から正すリメイク法による、適性な延命オーバーホール
半導体製造装置の各種電源・ロボット・モーター・ドライバー等の修理業務。 各種ケーブル・試験用治具の設計・製作。生産中止基板の再生業務。 構造解析、回路解析、故障修復。
OEM温調付安定化LD光源
ビームスポット径Φ及び波長は、仕様指定に従い製作致します。
赤:632.8nm、緑:543.5nm、黄:594.1nm等各種波長帯、出力レーザ光源を提供。
レーザーアニールとは、レーザー光を用いて材料の表面や特定の選択領域を局所的に加熱・冷却して材質特性を改質する技術です。活性化、合金化、結晶化などの目的で、半導体製造の(注1)イオン注入工程後の処理や金属加工などの分野で採用されています。
レーザーアニールの特徴は、炉やランプでのアニーリングと比較し昇温・冷却が短パルス時間でできる事に違いが有ります。また、レーザー波長を選ぶことで、表面層だけでなく深さ方向の特定の部分のみを選択的に改質することもできます。
レーザーアニールの応用例は、以下の様な分野で特長と効果が有ります。
半導体製造:シリコンウェーハの品質を高めるために、高速イオン注入によって崩れた結晶構造を安定化させる。また、不純物のドーピングや結晶成長のプロセスにも使用される。
フラットパネルディスプレイ製造:アモルファスシリコン薄膜をポリシリコン薄膜に改質することで、TFTのチャネルモビリティや転送特性を向上させる。
半導体レーザー製造:活性層や格子定数の調整に使用され、発光効率や波長特性が向上する。
太陽電池製造:薄膜の再結晶化や不純物の活性化に使用され、光吸収層や電極の特性が向上する。
金属加工:準安定相合金や超伝導金属の合成などに応用される。
注1)イオン注入とは、イオン化した物質(不純物)を半導体基板内に打ち込むことで、基板内に不純物を添加する方法で、ホウ素やリンなどの不純物イオンをウェハ表面に注入する事により、半導体デバイスの特性を向上させることができますが、イオン注入後に結晶構造の改善、及び不純物の排除をする事で電子の流れをスムーズにする為、レーザーアニール処理が登場しました。イオン注入工程の掃除を行う事をレーザーアニールとも言えます。
・保守期限が切れてメーカーに修理依頼ができなくなった。
・すでにサポート対応終了となった装置を使い続けている。
・古い装置のため部品交換や修理を依頼できない。
・新しい装置を購入する予算を確保できない。
・生産中止となった装置や海外製の装置部材でも、同等機能を持つ装置
を製作します。
廃版劣化ペルチェ(サーモ・モジュール)の交換オバーホールをペルチェの特注設計製作により具現化再現する事で設備機能の延命を実現。高価半導体製造設備の延命・保守・サービスが今受け入れられる理由が有る事を体感下さい。
■白金抵抗体 MODEL:PT7-14J-Y1
■サーミスター MODEL:PB7-42H-K1
高精度卓上恒温槽システム
恒温サーキュレータとサーモ・モジュールコントローラで高精度卓上恒温槽を実現。
高精度卓上恒温槽のブロック図
恒温槽内部構造
固有の高精度恒温槽(±1/100℃)を製作提供。
卓上恒温槽XYステージ付きサンプル(左右YXZプローブ付き)
温度特性DATA取卓上精密恒温槽
恒温槽詳細ブロック図
多光子方式顕微鏡は、レーザ走査型顕微鏡の一種で、 赤外領域のパルスレーザーによる多光子励起を行い、サンプルからの蛍光強度を観測します。 サンプルまたはレーザをスキャンして、高精度な三次元イメージングを得る事が出来るシステムで、ウエハー上のICチップ結晶欠陥検査を容易にするこれからのPm領域の検査器です。
半導体製造装置異常発生 ⇒ 原因調査依頼 ⇒ 異常装置のメーカーマニアル仕様書に基く診断報告書及び修理内容事前報告書の提示 ⇒ 修理見積書の作成依頼 ⇒ 修理詳細見積書提示 ⇒ 甲、乙双方に於いて保守延命契約締結 ⇒ 修理依頼書 ⇒ 修理実施内容報告書の提示 ⇒ 双方に於いて修理実施内容報告書に基き立会い検収の実施。
■ デンソー岩手工場
■ ラピス(NTT/ROHM)セミコンダクタ宮城工場
■ 日本テキサスインスツルメント合資会社 美浦工場
■ ジャパンディスプレイ
■ 富士電機津軽セミコンダクタ㈱
■ デクセルアルズ中田事業所
■ スタンレー電気
■ エプソン酒田
安全安心ものづくりに活用下さいYHTCの技術
【試作屋】【機械屋】【板金屋】【基板屋】【半導体レーザー制御用機器】【モック屋】【プラスチック成型】
国立環境研究所 情報通信研究機構電磁波研究所 近畿大学機能光回路研究室 株式会社OptoComb クラウドサービス 産業総合技術研究所 東京大學香取研究室 計量標準・標準物質 東京大學吉岡研究室 東北大学高・清水・伊東研究室 電気通信大学美濃島研究室 横浜大学洪・赤松研究室 徳島大學安井・南川研究室 宇都宮大学山本研究室 名古屋大学西澤研究室 慶應大学長谷川研究室/渡邊研究室 東邦大学理学部物理学科量子エレクトロニクス教室 東海大学遊部研究室 国立研究開発法人 量子科学技術研究開発機構 京都大学工学研究科電子工学専攻光量子電子工学分野野田研究室 東京大學先端科学技術研究センター岩本研究室 東京科学大學林文博研究室 慶應義塾大学太田泰友研究室