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半導体レーザ駆動制御用実験基板要素の紹介。

　安全・安心・ものづくりWeb→ポンチ絵→設計図面化→試作品→製品化→夢の実現化　

　どんなに距離が離れていても、貴社専任オンライ技術営業が弊社製品及び技術を理解し、的確に貴社のテーマを捉え、Ｗeb会議にて企画を具現化へと導くものづくり工程にYHTC RCをご利用下さい。

問い合せ(Contact us)

　オリジナル製品の製作相談をデザインから試作、作り込み、量産迄をフォロー致します。

■半導体製造工程 洗浄液恒温循環システム

　デザインソフトを用い設計業務を受託、DATA転送納品致します。

　■　機械要素機構・筺体等設計　　　　System Toois / SolidWorks

　■　電気回路設計・基板設計      CADLUS X DesignSpark PCB　/　KiCAD

　■　レンズ・ロジック光学設計　Zemax LensCal POPS

加工対応素材

　鉄鋼 SS400/SPCC/SECC/SK3/SKD11/SUM21/FC200/SCM435/SGP

　アルミ A5052/A5056/A1100/A6061/A7075/A2017/A6063

　ステンレス SUS304/SUS430/SUS303/SUS316/SUS410

機械加工技術

　汎用旋盤・NC旋盤・立旋盤　　　汎用フライス盤・NCフライス盤　　　ブローチ盤　　　

　汎用ボール盤・NCボール盤　　　横中ぐり盤・ジグ中ぐり盤　　　平面研摩盤

　円筒研摩盤・センターレスシャフト研摩盤・ラップ盤・ホーニング盤・

板金加工技術

　曲げ加工：V曲げ・R曲げ・ロール曲げ・ヘミング待上げ

　溶接：TIG溶接・MAG溶接・MIG溶接・LASER溶接・SPOT溶接・STUD溶接

　成型加工：バーリング・エンボス・ルーパー

　組立：カシメ・リベット・ボルトorビス止め　　その他：絞り加工・製缶

Email ：yhtc.rc＠ gmail.com　

　◆　試作製作見積書を作成し、ご回答させて戴きます。

実用3D金属加工部品モデルを見る。

加工材料 ： マルエージング鋼・ステンレス 630 / 316L・アルミ AISi10Mg・

　　　　　チタン・インコネル 718 / 713・銅

実用3D樹脂プラスチック加工部品モデルを見る。

レーザ光は、人工的につくられた直進光で、一般的な散乱光とは異なりその種類は、固体レーザ、ガスレーザ、半導体レーザがあり、弊社では、半導体レーザ(とは)システムを取扱います。半導体レーザ(LD)光には、出力が数ｍＷクラスから数kWパワークラスまで存在します。又、波長も0.38μm紫外域～10.6μm赤外域と広帯域に至ります。弊社では、これらLDが持つ固有特性を余なく引き出す事を目的とした電源に注目し、源であるトランスをノイズレス化するノイズレストランスを商品化し、固有のLDが個々に持つ特性を忠実に再現可能な電源の商品化を実現しました。LDの繊細な光発振構造を守るLD専用ソケットの商品化により、安全にLD素子と各種LD駆動回路要素を接続、光のパワー及び波長安定化を目的としペルチェ、サーミスターを用い、電気回路要素PIDによる高精度温度コントローラをLD駆動のために商品化し、これら技術を総合し、ノイズレスLDドライバーとして提供し、長さ、時間等計測単位に用いられる基幹技術光コムシステムの駆動電源に採用されるに至りました。又一方では、LD専用非球面レンズを商品化する事で

精密光学機器の部品及び機構組み上げ等の、ものづくりの基軸として欠かせぬ水平、垂直、平行を時計方位で表示する平行光測定器等々の半導体レーザ制御用周辺機器を開発商品化、未来に向け、光をテーマに水素の製法とキャリア方法を開発中で特に光触媒電極商品化に興味ある新人を幅広い技術分野に求めて居ます。

全固体電池/トヨタ/京都大学/大阪府市立大学

半導体LD光源      JIS T 0601-1-1, UL規格, CSA規格に準拠したLD光源設計

光ガン治療に取り組む（JST Channel）　動画（癌のイメージング）

■ 設計業務

機械 ・電気・光学・熱力・金型・制御ソフト

■ 加工業務

旋盤・フライス・研磨・板金・溶接・光造形・3Dプリト・プラスチック成型

■ 処理業務

各種メッキ・コーティンク・エッチング・プリント基板

■ 調達業務

 機械系部材

　ベアリング・プーリー・ギア・カム・モーター・シャフト・Ｏリング・ナット

　ボルト・キー

 電気系部材(ヒロセ・フジソク・マックエイト・ＴＤＫ・デーテル・コパル・東芝)

　ＩＣ・コネクター・スイッチ・ボリューム・トランス・コンデンサー・電源

　ヒューズ・７セグＬＥＤ・表示器・高周波変調器

 光学系部材

　半導体レーザ電源・半導体レーザ制御電源・半導体レーザ・ＬＥＤ・ファイバー

　光コネクター・レンズ・アイソレータ・

 温調周辺機器

 　精密温度コントローラ・精密温度計測・ヒーター・ペルチェ・サーミスター・白金抵抗体

　ヒートシンク

※企画開発設計・詳細図面・部材調達・組立・調整・検査・納品の一環業務。

　弊社では、連携研究テーマとし下記の２テーマに関する募集しています。連絡は、最下段連絡欄又はlaser@yhtc.co.jpへご連絡下さい。

　　●　近赤外領域ＬＤ素子光源を用いた生体治療器機の開発。

　　●　パワー半導体レーザーを用いた溶接・溶着・板金等の導通接続システム開発。

半導体プロセスラインシステム

　半導体モジュールの製造プロセスに於いて、生産工程の温度管理がデバイスへの品質及び性能特性、微細、微小化に重要な影響を及ぼすファクターを占めて居ます。

　洗浄と温調

　RCA洗浄技術は、30余年にわたり半導体ウエハやFPD(Flat panel display)の洗浄に用いられる信頼性の高い技術です。この洗浄工程では、洗浄媒体液の高精度な温度制御管理が求められています。

　弊社に於いては、40年以上の温度制御経験値を生かし、PID方式のサーモ・モジュール(ペルチェ)コントローラ、ヒーター・コントローラ、ハロゲンヒータコントローラ等を用いた、恒温(精度±1/10℃)循環液システムを提供致します。以下サアーキュレエータシステムを提供致します要素技術背景を紹介致します。

　RCA洗浄技術

　RCA洗浄は、シリコンウェーハ洗浄において、NH₄OH（水酸化アンモニウム）とHCｌ（塩酸）およびH₂O₂（過酸化水素）の水溶液で洗浄するSC-1洗浄と、その後に、HCｌ（塩酸）とH₂O₂の水溶液で洗浄するSC-2洗浄を行う方法である。いずれも溶融石英の容器に入れて75～80℃の温度でウェーハを浸漬させて洗浄する。SC-1洗浄は、有機物の溶解除去と非溶解性のパーティクルを剥離除去する効果をもつ。また、SC-2洗浄は金属イオン汚染物を除去する効果がある。このRCA洗浄は半導体の洗浄法の標準となり、世界の半導体メーカーで40年以上にわたって広く使用されるようになった。

これからのウエハー洗浄技術　「純水/マイクロバブル循環液」

恒温循環液に用いる循環ポンプにマイクロバブル発生システムを付与する事で、従来のRCA洗浄技術に、置換える事を実現可能とする技術の提供。

　半導体（集積回路）は産業のコメとも呼ばれており， 現代社会を支える最も重要な電子部品であると言える。この製造 にはフォトリソグラフィと呼ばれる技術が利用されてお り，感光性有機物（フォトレジスト）を利用してシリコ ンなどの基板にパターンを形成しながら電子回路をくみ 上げていく。その過程において洗浄は大変に重要な工程 のひとつである。洗浄の対象は基板上の有機物や金属， パーティクルが対象となります。プラズマなどを利用したドライ方 式も利用が進んでいるが，信頼性や取り扱いの容易さな どの点で水を媒体とするウエット方式は洗浄の主流となっている。ウエット方式では最終的なリンスの段階で大量の超 純水が利用されるものの，洗浄の媒体はあくまでも強力 な薬液である。特に有機物の除去には硫酸過水（SPM： 硫酸+過酸化水素/150℃）が利用されている。この薬液 は強力な洗浄力を発揮するものの廃液処理や安全上の問 題などがあるため，薬液を利用しない洗浄方式の開発は 夢の技術と考えられています。マ イクロバブルとは直径が 50 µm よりも小さな気泡であ り，その特徴は水中で縮小してついには消滅する点であ る。この時に気液界面の効果により活性種を発生する。 特にオゾンのマイクロバブルを利用すると大量の水酸基 ラジカル（∙OH）を発生する現象を発見した。水酸基ラ ジカルは最も強力な酸化剤のひとつであるため，産総研 ではこれを利用して難分解性の有機排水を効率的に処理 する技術を確立した1～4)。 半導体洗浄に対するマイクロバブルの利用は 2000 年 位から一部の半導体企業で検討された。しかし，マイク ロバブルの特性を捕らえていない試みであり成功には至 らなかった。そこで産総研は排水処理における経験を生 * E-mail : m.taka@aist.go.jp かしつつ，多数の企業や経産省などからの協力や支援をマ イクロバブルとは直径が 50 µm よりも小さな気泡であ り，その特徴は水中で縮小してついには消滅する点であ る。この時に気液界面の効果により活性種を発生する。 特にオゾンのマイクロバブルを利用すると大量の水酸基 ラジカル（∙OH）を発生する現象を発見した。水酸基ラ ジカルは最も強力な酸化剤のひとつであるため，産総研 ではこれを利用して難分解性の有機排水を効率的に処理 する技術を確立しています。1～4)。 弊社では、マイクロバブル発生システムの試作開発を 2000 年 位から一部の半導体企業で検討された。しかし，マイク ロバブルの特性を捕らえていない試みであり成功には至 らなかった。そこで産総研は排水処理における経験を生 * E-mail : m.taka@aist.go.jp かしつつ，多数の企業や経産省などからの協力や支援をマ イクロバブルとは直径が 50 µm よりも小さな気泡であ り，その特徴は水中で縮小してついには消滅する点であ る。この時に気液界面の効果により活性種を発生する。 特にオゾンのマイクロバブルを利用すると大量の水酸基 ラジカル（∙OH）を発生する現象を発見した。水酸基ラ ジカルは最も強力な酸化剤のひとつであるため，産総研 ではこれを利用して難分解性の有機排水を効率的に処理 する技術を確立した1～4)。 半導体洗浄に対するマイクロバブルの利用は 2000 年 位から一部の半導体企業で検討された。しかし，マイク ロバブルの特性を捕らえていない試みであり成功には至 らなかった。そこで産総研は排水処理における経験を生 * E-mail : m.taka@aist.go.jp かしつつ，多数の企業や経産省などからの協力や支援をマ イクロバブルとは直径が 50 µm よりも小さな気泡であ り，その特徴は水中で縮小してついには消滅する点であ る。この時に気液界面の効果により活性種を発生する。 特にオゾンのマイクロバブルを利用すると大量の水酸基 ラジカル（∙OH）を発生する現象を発見した。水酸基ラ ジカルは最も強力な酸化剤のひとつであるため，産総研 ではこれを利用して難分解性の有機排水を効率的に処理 する技術を確立した1～4)。 半導体洗浄に対するマイクロバブルの利用は 2000 年 位から一部の半導体企業で検討された。しかし，マイク ロバブルの特性を捕らえていない試みであり成功には至 らなかった。そこで産総研は排水処理における経験を生 * E-mail : m.taka@aist.go.jp かしつつ，多数の企業や経産省などからの協力や支援を

■　新型半導体プロセス　恒温洗浄水循環システム

 　全国の自治体、都道府県指導の下、各市町村が自主的導入へ。導入自治体は？

ものづくり企画から誕生した製品の紹介。

生活関連製品の紹介

ＹＨＴＣの豊富な経験、要素アイディアを活用下さる事は。

研究機関本来の活動（実験・実証）時間の担保に繋がります。

　研究機関に身を於かれていらっしゃる、先生方は、学生さんへの教育の他に、学会発表、研究時間のみならず、日々研究を進行する上で波及する間接業務等大変忙しい毎日と察し致します。そこで、弊社の提案は、先生方が出張で如何に距離が離れていようとも、時空間を超えＳｋｙｐｅ（無料）システムを使用し、相互の意思伝達を細部に渡りライブカメラ（映像・音声）で理解し合いものずくりを其の場其の場フェイス toフェイスで、結論付け進めて居ります。先生方には現在何社もの業者との打ち合わせや、事務処理が御座いませんか？業者を一本化戴く事で、先生方の意向は直接ものづくり現場に伝わり今迄先生に掛かっていましたものづくり負荷（実験準備）を軽減戴、より付加価値の高い本来の研究業務に専念戴きます。又学生さんの場合は、、要素技術、材料選択、表面処理方法、図面作成等に未経験部分が多々有りますが、恥じる事無く、構想段階からお話しを聞かせて戴く事で、我々の長年のサーポート経験を生かし、具現化のアドバイス及びバックアップを、先生方の意図をくみとりながら弊社の責任に於いて、お手伝いを進めています。

富士通、日本電気、日立製作所、東芝、ＮＴＴ，シャープ、パナソニック、三洋電機、三菱電機、ローム、日亜化学、古河電工、三菱電線、日立電線、藤倉電線、住友電工、富士フィルム、ミツトヨ、東京航空計器、キャノン、トプコン、浜松ホトニックス、住友3Ｍ、リコー光学、エス・エム・エムプレシジョン、グラノプト、テルモ、その他全国の国公立大学及び私立大学、

全国自治体及び自治体病院。

問い合わせ TEL:０４２－７０６－８９７０

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