半導体モジュールプロセスライン 汎用ケミカル サーキュレータシステム

 半導体モジュールの製造プロセスに於いて、生産工程の温度管理がデバイスへの品質及び性能特性、微細、微小化に重要な影響を及ぼすファクターを占めて居ます。

 

洗浄と温調

 RCA洗浄技術は、30余年にわたり半導体ウエハやFPD(Flat panel display)の洗浄に用いられる信頼性の高い技術です。この洗浄工程では、洗浄媒体液の高精度な温度制御管理が求められています。

 弊社に於いては、40年以上の温度制御経験値を生かし、PID方式のサーモ・モジュール(ペルチェ)コントローラ、ヒーター・コントローラ、ハロゲンヒータコントローラ等を用いた、恒温(精度±1/10℃)循環液システムを提供致します。以下サアーキュレエータシステムを提供致します要素技術背景を紹介致します。

 

RCA洗浄技術

 RCA洗浄は、シリコンウェーハ洗浄において、NH4OH(水酸化アンモニウム)とHCl(塩酸)およびH2O2(過酸化水素)の水溶液で洗浄するSC-1洗浄と、その後に、HCl(塩酸)とH2O2の水溶液で洗浄するSC-2洗浄を行う方法である。いずれも溶融石英の容器に入れて7580℃の温度でウェーハを浸漬させて洗浄する。SC-1洗浄は、有機物の溶解除去と非溶解性のパーティクルを剥離除去する効果をもつ。また、SC-2洗浄は金属イオン汚染物を除去する効果がある。このRCA洗浄は半導体の洗浄法の標準となり、世界の半導体メーカーで40年以上にわたって広く使用されるようになった。

 

サーキュレータシステム構築の要素技術

低温帯域恒温液循環システム

 サーモ・モジュール(ペルチエ)駆動方式 :  PWM駆動 及び アナログ駆動方式

 温度制御方式 : PI制御 又は PID制御

 

高温帯域恒温液循環システム

 ヒーター・コントローラ / ハロゲンヒータコントローラ等

 

PC制御により多チャンネルのサキュレータシステム同時駆動

 RS-485を装備 / プログラミング8種内部記憶(温度サイクルステップ数:10ステップ) 

冷却液循環チャンバー

大容量サーモモジュール

恒温液発生チャンバー



石英チャンバー

ハロゲン光ヒータ

フッ素樹脂チャンバー


ケミカル サーキュレータ チャンバー

適用循環液 : 純水(脱イオン水) / フッ化水素酸 / アンモニア過酸化水素水等

チャンバー材質 :フッ素樹脂 / 石英硝子 /

熱交換器構造

ペルチェ コントローラ/サーモ・モジュールコントローラ(Thermo Module Controller)

 多チャンネル(最大拡張24チャンネル)のサーキュレータシステムをPC1台で制御

サーキュレータ システム ブロック図


 

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