OPTディバイス、半導体素子等の温特テスト用卓上恒温槽の製作

精密で固有形状の卓上恒温槽から超マイクロ恒温槽まで対応

 本卓上恒温槽のシステム構成は、恒温チラー、温度コントローラと恒温槽から構成されます。恒温槽に付きましては、お客様がテスト対象とされるディバイスに見合ったオリジナル設計をさせて頂きます。つまり恒温槽部に付きましては、標準品が御座いません全てお客様と打ち合わせながら、製作を進めさせて戴きます。

 恒温槽は、恒温プレート部とペルチェ及びヒートシンクから構成され、ヒートシンク部には、恒温水が循環し、ペルチェからの放熱能力を補助する役割を担っている。

 卓上恒温槽システムブロック図

 光学ディバイス製造工程におけるトラッキング特性、研究開発作業での物性の 温度特性評価用に大変小型な卓上型の恒温槽です。恒温槽外部から光を入力し恒温槽内被測定物を 通過した光を恒温槽外部で受光可能な二重透過窓を装備。
槽内の温度は、50℃~+200まで対応いたします。温度制御精度1/100までの精度及び分解能を 確保することができます。
 本システム構築要素には、ペルチェ・ヒーター・温度センサー(サーミスター・白金)・チラー 等を用い、これらを弊社製温度コントロールシステムで制御しています。
 被測定物に合わせ恒温槽内の設計を承りますので、お気軽に弊社技術にご相談下さい。

 卓上恒温槽実績例(出荷実績122件)

恒温プレート部サンプル例

 薄いカラス、ウエハー等をバキューム吸着し、温度コントロールを実現。

超小型恒温槽治具

 外形寸法60×50×60mmに、空冷ファン、ヒートシンク、ペルチェ、サーミスター、及び窒素ガス封入カバーを装備し、±1/100℃を制御。

①窒素掃引口付きLDマウンター治具      ②恒温ドライシステム


③光学フィルター温特検査治具。         ④シリコン基板吸着恒温プレート


 多種多様恒温槽を構築致しました経験を貴社へ提供致します。

下記は、恒温冷液水循環水槽を3Dプリンターで銅で作成しています。この為、内部循環が、ジャバラ状態で製作されており、熱交換効率が良いため-50℃を容易に得る事を可能にしている。

上記、恒温槽は、側面左右よりプローブを配置する事ができます。配置されたプローブは、X-Y-Zに振る事ができ、側面ウインドウは、外気と遮断できるよ、プローブの移動と、同期し、ウインドウも移動するよう、ユニバーサルウインドウを実現しています。

 貴社の仕様を適えた恒温槽治具を設計製作致します。お気軽にご相談下さい。

温調帯域は、-45~200℃、コントロール精度は、±1/10℃。

疑似黒体(卓上精密恒温プレート)

 精密温度コントローラ

 

本器は、ペルチェ素子を精密に制御する事を目的としたドライバーとして、光の波長及び光パワーを安定化する必要があった光通信の実現に向け開発、実用化されたコントローラです。現在では、精密な温度安定化性能を生かした利用法とし、以下の恒温プレート治具との融合技術から疑似黒体の具現化が試みられています。

 

 左の写真は、OWLIFT(サーマルカメラ)で撮影された画像です。

 

 t = k / (e ^ 0.25) – 273.15

t : 画面上の値(摂氏)
e :
放射率, 0<e<=1
k :
補正前の値(ケルビン)
^ :
累乗を表すt = k / (e ^ 0.25) – 273.15


 OWLIFTCap上の温度は、(温度マーカの設定における放射率により補正された値が表示されています。放射率で補正すると温度が高くなります。

OWLIFT SDKのツールやサンプル(OWLIFTDumpOWLIFTView)では黒体を仮定した補正していない温度(放射率=1の温度)が得られますが、実用においては放射率を適用することが必要です。そこでOWLIFTCapでは右上の計算を行っています。

 OWLIFTCap上の温度は、(温度マーカの設定における放射率により補正された値が表示されています。放射率で補正すると温度が高くなります。

OWLIFT SDKのツールやサンプル(OWLIFTDumpOWLIFTView)では黒体を仮定した補正していない温度(放射率=1の温度)が得られますが、実用においては放射率を適用することが必要です。

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